新突破！中国实现1.36公里外毫米级成像技术 5月13日消息，据媒体报道，中国科学技术大学潘建伟院士团队在量子光学成像领域取得重大突破。研究团队联合国内外科研机构，创新性地提出主动光学强度干涉合成孔径技术，...
世界最先进！ASML High-NA EUV光刻机已在Intel投入生产：晶圆生产效率、可靠性翻倍 2月25日消息，Intel宣布，ASML首批两台高数值孔径（High-NA EUV）极紫光刻机已经在其工厂投入生产。初步数据显示，其效率、可靠性比上一代EUV光...
