全球首创！九峰山实验室氮化镓材料制备领域新突破：键合界面良率超99% 3月24日消息，据报道，九峰山实验室科研团队近日取得重大突破，成功在全球范围内首次实现了8英寸硅基氮极性氮化镓（N-polar GaNOI）高电子迁移率材料的制...
